S10是一款基于磁控溅射原理的高真空离子溅射仪，采用内置 涡轮分子泵与无油隔膜泵联用，可提供洁净的高真空环境（<5 ×10⁻² Pa）。结合倾斜靶与旋转样品台的协同设计，可在样品 表面形成均匀、稳定的导电镀层，广泛适用于超高分辨场发射 电镜样品和FIB样品的导电镀层制备。可溅射金属：Au、Pt、 Pd、Ir、W等。