RPS50EM是一款远程等离子体清洗源，可集成于SEM或FIB 腔体，通过电离气体产生的等离子体对腔室和样品表面的碳 氢化合物进行高效清洗，不仅可以解决成像过程中的积碳黑 框现象，且可提高成像分辨率及衬度，缩短腔室抽真空时 间。RF-ICP技术使得等离子体更温和，可大幅降低清洗过程 中的热损伤和等离子体轰击损伤。