C10是一款基于电阻蒸发原理的高真空镀碳仪，采用内置涡轮 分子泵和无油隔膜泵联用，可建立洁净的高真空环境（<5× 10⁻²Pa），结合倾斜偏置式碳源和自动旋转样品台设计，可在 样品表面沉积一层均匀致密的碳膜，从而有效抑制荷电效应， 同时避免引入干扰元素，确保成分分析准确性。特别适用于 SEM（如EDS、EBSD及EPMA分析）、FIB加工以及TEM样品 所需碳镀层的制备。