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高真空离子溅射仪 S20(2026版)
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高真空离子溅射仪 S20(2026版)
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S20是一款基于磁控溅射原理的高真空双靶离子溅射仪,采用内 置涡轮分子泵与无油隔膜泵联用,可提供洁净的高真空环境 (<5×10⁻² Pa)。结合倾斜双靶与旋转样品台的协同设计,可 在样品表面形成均匀、稳定的导电镀层,广泛适用于超高分辨 场发射电镜样品、特别是3D粉末类和易损伤类样品的导电镀层 制备。可溅射金属:Au、Pt、Pd、Ir和任意组份的 Pt-Au、PtPd 叠层合金等。
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高真空离子溅射仪 S20(2026版)