J20是一款基于磁控溅射原理的双靶离子溅射仪，采用高性能旋 片泵可快速建立低于4 Pa的真空环境，结合倾斜双靶与旋转样 品台的协同设计，可在样品表面形成均匀、稳定的导电镀层， 广泛适用于高分辨场发射电镜样品、特别是3D粉末类和易损伤 类样品的镀层制备。可溅射金属：Au、Pt、Pd、Ir和任意组份 的 Pt-Au、Pt-Pd 叠层合金等