OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，最大冷却速率达到10℃/S此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。