高真空CVD系统--OTF-1200X-HVC 1200°C二通道混气高真空CVD系统

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高真空CVD系统--OTF-1200X-HVC 1200°C二通道混气高真空CVD系统

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描述
OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉,二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。