产品名称

离子溅射仪 ISC 150T（高真空版）

产品图片

泵组

内置无油干泵+分子泵组

抽速

>0.3 m³/h隔膜泵+25 L/S 分子泵

极限真空

<5E^-3 Pa

工作气压

0.5-2 Pa，恒流量控制，Ar气或空气

抽真空时间

<3-5 Min

样品腔室尺寸

～Ø 150 *110 mm 石英玻璃

磁控溅射阴极

靶材尺寸 Ø 50 *0.1-3 mm

样品温度

＜35-50℃

溅射电源

恒功率磁控DC溅射电源

Max. 30W ，Max. 100 mA

溅射时间

1-600sec

操作方式

触摸屏控制

外形尺寸

480 mm宽*400 mm深*440 mm高

适用靶材

贵金属Au、Pt、Pd及其合金；

常规金属：Cr、Ag、W、Cu及C等

沉积速率

1Pa/20W: Au target: ～80nm/min

                C   target：～6nm/min

附件

ISC 150及ISC 150T均可加装样品原位等离子清洗模块RPS20、ISC150T可选配喷碳模块；

可选配旋转样品台；

推荐应用

追求高分辨率场发射FE-SEM 扫描电镜样品的喷金、铂等以及其他金属、电极镀膜用途（即推荐场发射SEM电镜样品前处理）

产品优势

采用高品质恒功率磁控溅射电源，确保恒定镀膜沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤