产品名称

离子溅射仪ISC 150（低真空版）

产品图片

泵组

外置美国 Welch真空旋片泵

抽速

>2 m³/h

极限真空

<1 Pa

工作气压

4 -10 Pa，恒压控制，空气

抽真空时间

<3-5 Min

样品腔室尺寸

～Ø 150 *110 mm 石英玻璃

磁控溅射阴极

靶材尺寸 Ø 50 *0.1-3 mm

样品温度

＜35-50℃

溅射电源

恒功率磁控DC溅射电源

Max. 30W ，Max. 100 mA

溅射时间

1-600sec

操作方式

触摸屏控制

外形尺寸

420 mm宽 *300 mm深 *380 mm高

适用靶材

   贵金属Au、Pt、Pd；

合金Au-Pd、Pt-Pd

沉积速率

5Pa/20W： Au target: ～24nm/min

                                                Pd target：～60nm/min

附件

ISC 150及ISC 150T均可加装样品原位等离子清洗模块RPS20、ISC150T可选配喷碳模块

可选配旋转样品台

推荐应用

追求更高分辨率或温度敏感SEM 电镜样品的喷金、喷铂等贵金属镀膜用途（即推荐灯丝或台式SEM电镜样品前处理）

产品优势

采用高品质恒功率磁控溅射电源，确保恒定镀膜沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤