此设备是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品，有自动控制的样品台，就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理，保证处理样品表面的一致性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台（带有真空吸盘和控制盒）。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面，可处理的样品有单晶片，光学元件和塑料等，也可在常压下进行等离子增强气相沉积。