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CVD石墨烯和纳米管生长炉-- GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯生长炉(三温区,最高温度为1100℃)
CVD石墨烯和纳米管生长炉-- GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯生长炉(三温区,最高温度为1100℃)
CVD石墨烯和纳米管生长炉-- GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯生长炉(三温区,最高温度为1100℃)
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CVD石墨烯和纳米管生长炉-- GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯生长炉(三温区,最高温度为1100℃)
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产品参数
描述
GSL-1100X-111-D11是一款三温区的大型双管炉,其最高温度可以达到1100℃。特殊的双管设计,是为了通过CVD方法在箔材上大面积生长材料(面积:~7000 cm^2,箔材缠绕在内管的外壁上)。一个送管装置可以将内管轻易送入外管内部和从外管中取出。此款设备特别适合大面积生长石墨烯和柔性电极材料。
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CVD石墨烯和纳米管生长炉-- GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯生长炉(三温区,最高温度为1100℃)