ALD-1200X--R-4是一款4英寸ALD旋转管式炉系统，包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发生器以及4通道质子流量计控制系统，可利用此系统进行粉末表面的ALD和CVD包覆。该系统简洁的设计使得更多的科研院所能够在可负担的低成本情况下实现ALD工艺实验。